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2008.7.15−17 SEMICON West 2008に出展しました
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当社は2007年7月15日〜17日に米国サンフランシスコで開催された「SEMICON West 2008」に出展しました。2007年3月に子会社化した株式会社ナノシステムソリューションズのウェーハID読取装置、「TAKUMI Mark VI」をデモ展示。
コンパクトボディの上、高速画像処理機能をオールインワンで搭載した次世代型のスマートカメラとして、ブース来場者から好評を得ました。 |
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2007.12.5-7 セミコン・ジャパン2007に出展しました
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12月5日から7日まで幕張メッセにて開催された「セミコン・ジャパン2007」に出展いたしました。
今年のレイテックスは「Infinity（無限）」をテーマに、限りない可能性を秘めた技術力の紹介を目的とし、ウェーハ表面3次元レビュー装置「RXD」などの新製品を中心に展示を行い、ブースへの来場者は延べ350名と例年にない盛況となりました。 |
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2007.7.16-20 SEMICON West 2007に出展しました
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当社は2007年7月16日〜20日に米国サンフランシスコで開催された「SEMICON West 2007」に出展いたしました。
1,250社が出展し、前年度を上回る42,000人を超える来場者が会場を訪れました。
また、この展示会に合わせて500以上の新製品、新技術がリリースされた中、当社は2007年4月に特許権・商標権を取得した「ウェーハ内部欠陥検査装置」を発表しました。 |
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2007.3 株式会社ナノシステムソリューションズを完全子会社に
レイテックスは、2007年3月に株式会社ナノシステムソリューションズを株式交換にて完全子会社といたしました。
ナノシステムソリューションズ社は2004年12月に創業し、独自のテレセントリック光学技術を中核に据え、半導体製造装置等様々な精密機器に組み込まれる特殊光学製品、すなわちナノテクノロジーとバイオテクノロジーの融合による新製品の開発に取り組んでまいりました。
この完全子会社によって、今後は、レイテックスの持つ市場・顧客基盤とナノシステムソリューションズ社の保有する技術力を一体化することにより半導体業界をはじめとしたお客様のニーズに合致させていくとともに、さらなる新しい市場を創造する高度な製品の開発・提供を加速させてまいります。
主要製品
「マスクレス露光装置 D-light DL-1000」
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テレセントリック光学照明系とDMD（Digital Micromirror Device）を使用し、PC上で作画した任意のパターンを、フォトマスクを用いることなく即座にレジスト上に転写するR&D用露光装置です。 |
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2006.12.6-8 セミコン・ジャパン2006に出展しました
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当社は今年で30周年を迎えたセミコン・ジャパン2006へ出展しました。
今回の展示のポイントは２つ。１つは現状の32nm世代の対応においての平坦度を追求したナノトポ及びエッジロールオフを紹介しました。もう１つのポイントは、45nm以降の普及を睨んだウェーハエッジ周辺プロセス解析の応用例を展示し、歩留改善の提案を行いました。
幕張メッセで12月6日からの３日間行われたこの展示会に約11万人の来場者があり、当社のブースにも例年を上回るお客様が立ち寄られ、好評を博すことができました。 |
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2006.10 新製品「ウェーハピンホール欠陥装置」を開発しました
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当社は、2006年10月にウェーハピンホール欠陥装置「RXPシリーズ」を関係各社と共同で開発しました。
従来、ウェーハメーカーにおいて行うインゴット引き上げ工程において、エアーポケットによるウェーハの表裏面の欠陥検査を目視レベルで行っており、しかも内部欠陥を検査する方法がありませんでした。
この装置は、ウェーハの内部欠陥の検出と同時に、ウェーハの表裏面欠陥を自動で検査することを目的に開発しました。 |
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2006.8 本社を多摩センターに移転しました
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8月1日より新社屋にて営業を開始しました。
１Fに100坪のクリーンルーム、200坪の実験室を配し、デモをはじめお客様の要望をリアルタイムで実現できるスペースを確保しました。
さらなる飛躍をめざし、レイテックスはすでに動き出しています。 |
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2006.7 SEMICON West 2006に出展しました
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2006年7月11日〜13日、サンフランシスコ・Moscone Centerにて開催されたSEMICON West 2006（1,250社が出展し、約44,000人が来場）に出展しました。
微細化の進む業界内でウェーハエッジ検査の重要性が高まる今、当社ブースにもウェーハメーカーやデバイスメーカー各社の担当者が訪れ、今後のさらなるビジネス拡大への手ごたえを感じることができました。 |
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2006.1 ISO9001：2000 認証取得しました
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当社は2006年1月、品質マネジメントシステムの国際規格であるISO9001の認証を取得しました。
ISO9001の要求事項を通して開発から生産、サービスに至る一貫した社内品質システムの改善・構築を行い、顧客満足度を向上するための取り組みを行ってまいります。
また、システムを体系的に確立することにより、経営ビジョンに基づく人材育成、製品企画、生産システムなどを策定し、無駄のない効率的な業務を遂行することにより環境の変化に即応できる製品実現をめざします。 |
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2005.12.7-9 セミコン・ジャパン 2005に出展
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「Sharing Expertise, Make Innovation（協働によるイノベーションの創出）」をテーマに、12月7日から9日まで幕張メッセで開催されたセミコン･ジャパン2005に出展しました。27カ国1,600社が出展し、昨年とほぼ同様の100,000人近い来場者が訪れました。
今年はウェーハエッジ･ベベルの研磨や検査に関する装置の展示が目立っていた中で、当社もデバイスプロセス向け「EdgeScan＋」を実機展示し、この分野におけるリーディングカンパニーとしての存在感をアピールしました。 |
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2005.7.12-14 SEMICON West 2005に出展
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7米国・サンフランシスコで開催された「SEMICON West 2005」に出展いたしました。
今年から前工程、後工程がMosconeセンターに統合され、出展社数も3,500社を超える世界最大規模の展示会となりました。
会期中にはさまざまなイベントやセミナーが開催され、業界動向・最新技術に関する情報を収集することができました。一方当社ブースに立ち寄られたお客様では、各国主要ウェーハメーカー、米国デバイスメーカーが特に目立ち、大半が予め目的をもって具体的に詳細な説明を要望されました。 |
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2004.12.1-3 セミコンジャパン2004に出展
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12月1日から3日まで幕張メッセで開催された「セミコンジャパン2004」に出展いたしました。
セミコンジャパンは半導体製造装置等の日本最大の展示会です。26カ国、1,610社が出展し、10万人を超える来場者で活気にあふれていました。
当社は、デバイスメーカー向けウェーハエッジ検査装置「EdgeScan PLUS」など3台の実機を展示し、最新の技術と存在感をアピールすることができました。 |
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2004. 10.1 EdgeScan PLUS 発売開始
 当社では既にEdgeScanを主にウェーハメーカー向けに様々な欠陥対象を解決する検査装置として販売していますが、このたびデバイスメーカー向けにEdgeScan PLUSを発売しました。
デバイスメーカーでは、特にエッジ部の材料の残渣や膜ストレスなどの問題に対処できる検査装置が存在していませんでした。
EdgeScan PLUSはデバイス各工程の積層膜を考慮し、次々と変化するエッジ状態に対応可能なほか、解像度ほか当社独自の高い技術を駆使してハイレベルな自動モニタリングを行います。 |
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2004.9.27 NanoPro NP1 権利取得
「NanoPro NP1」とは
斜入射干渉計を用いたウェーハ両面測定機です。ウェーハの平坦度などをエッジコンタクトのみで高精度に測定できるのは世界に例がありません。
また、斜入射干渉計のメリットを生かし、従来不可能とされたウェーハ製造前工程での測定により、工場の前工程から製品出荷時の最終検査までを、一種類の装置で測定が可能になります。
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ウェーハ測定検査機事業で実績のある米国KLA-Tencor 社の製品「NanoPro NP1」に関する特許及び商標を含む権利を取得し、当装置の全世界向け販売を開始します。
自社でも既にオリジナル商品「DynaSearch XP」をウェーハの平坦度及びNanotopography等の片面測定用として販売していますが、市場が両面研磨へシフトする動きに対応するため、既に両面同時測定方式を採用している「NanoPro NP1」を取り入れ、開発期間の圧縮を可能にしました。 |
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2004.7.12-14 セミコンウエストに出展
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7月12日から14日、アメリカ・サンフランシスコのMosconeセンターで開催された「セミコンウエスト2004」に出展いたしました。
セミコンウエストは、アメリカで開催される半導体製造装置等の世界最大の展示会です。
出展国数も20カ国以上に上り、今年はウェーハプロセスに加え、計測・検査・テスト用の装置や技術が高い注目を集めていました。
開催期間中には、業界動向予測や環境問題、技術セミナーなども開催され、さまざまな面で情報の収集を行うと同時に、当社の取り扱い製品やサービスを広くアピールすることができました。 |
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