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本装置は、テレセントリック光学照明系とDMD(Digital Micromirror Device)を使用し、PC上で作画した任意のパターンを、フォトマスクを用いることなく即座にレジスト上に転写するR&D用露光装置です。
ユーザーの開発構想が速やかに実現化でき、研究試作の効率が飛躍的に向上します。
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- 手軽に最小画素1μmのレジストパターンが得られます。
- 基板の材質・形状を問いません。
- オートフォーカス、自動アライメント機能を装備します。
- 装置はコンパクトでメンテナンスも容易です。
- グレースケールパタンの描画も可能です。
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- 光半導体デバイス開発
- 通信用デバイス開発
- 光硬化性材料開発
- 微小IDナンバリング
- MEMS
- μTAS
- 局所露光、選択露光アプリケーションなど
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