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独自の光学測定装置により高分解能高精度にウェーハトポグラフィーを測定します。
また、従来の干渉方式では避けられなかった装置環境の振動等の影響を最小化しています。
また、測定においてはステッパータイプのチャックを採用し、リソグラフィー平坦度測定を現実。
●Wafer−Chuck平坦度の測定も可能
DynaSearchは、独自の光学方式にて､平坦度とナノトポグラフィーを測定する科学式ウェーハトポグラフィー測定検査装置です。ウェーハ加工評価で必須のウェーハ平坦度とNanotopografhy測定を一台で可能にしました。レイテックスでは、EdgeScan装置のエッジ検査に加え裏面検査および、このDynaSearchの平坦度・ナノトポグラフィー測定装置のライナップ追加により完全な出荷検査ラインの構築を具現化しました。 |
| Flatness測定 |
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| １：生画像 ２：Height Map ３：SiteView ４：サイトグラフ ５：サイト平坦度 ６：測定条件及びサマリデータ |
| Nanotopography測定 |
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| １：生画像 ２：Fliter前Height Map ３：S-curveと累積 ４：Fliter後Height Map ５：P-V分布Map ６：NT欠陥Map |
| Roll-off measurement |
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| Global Planalization |
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