 NanoPro NP2は次世代高品質ウェーハのトポグラフィー測定装置です。
極斜入射干渉方式にてウェーハ両面を同時に測定、エッジハンドリングと併せて、表面裏面に非接触で平坦度・Nanotopography・RollｰOff測定します。
測定チャックの影響が懸念されるNanotopography測定も裏面非接触にて両面同時測定します。
斜入射方式を採用したことにより、次世代ウェーハとして動き始めた、ThinｰSOlウェーハにも完全に対応。
また、従来の干渉計では測定できない、粗い面の測定も可能になり、200mmのSSPウェーハも高分解・高精度にて測定が可能です。
斜入射干渉系の特徴でもある『粗面測定』、『広ダイナミックレンジ』によりラップ・グラインド等の前工程からポリッシュ、Epi後のウェーハまで測定でき､ウェーハ製造工程を通して形状､加工量の管理が可能になり、工程による歩留まり向上に大きく貢献します。
完全エッジハンドリングを採用したことにより､DSPウェーハの出荷前測定後の洗浄工程を省くことが出来ます。
300mmウェーハ、200mmウェーハとも実績あり。
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